• Analyse der strukturellen, chemischen und physikalischen Beschaffenheit von Materialien
• Analyse der chemischen und physikalischen Eigenschaften von Festkörperoberflächen
• Schadensanalytik

Neue Materialien für die Sensorik

Die Entwicklung neuer, aber auch in harschen Umgebungen zuverlässigerer Sensoren bedingt oftmals den Einsatz neuartiger maßgeschneiderter Materialien, wie z.B. funktionelle Sensorschichten aus 2D-Materialien oder widerstandsfähige Schutzschichten. Für Forschungs- und Entwicklungsprojekte stehen hier Anlagen zur Abscheidung und Bearbeitung verschiedenster Materialien zur Verfügung. Unter anderem sind eine Pulsed Laser Deposition-Anlage (PLD), eine Sputterabscheideanlage (PVD) und verschiedene Plasmaabscheideanlagen installiert. Komplettiert wird die Ausstattung durch einen umfangreichen Analytikpark für die Charakterisierung dieser Materialien als auch zur Aufklärung von zuverlässigkeitsrelevanten Schadmechanismen. Unter anderem stehen ein Rasterelektronenmikroskop (REM/EDX), ein Röntgenphotoelektronenspektrometer (XPS), ein Raman-Spektrometer, ein Laserscanningmikroskop (LSM) sowie etliche weitere analytische Methoden zur Verfügung.

Rasterelektronenmikroskop/Röntgenfluoreszenzanalyse (REM/EDX) – Thermo Scientific Phenom XL

• Elektronenmikroskopische Aufnahmen von Festkörpern mit Topographie- und Materialkontrast
• Vergrößerung: 80x – 100.000 x, Auflösung: <14 nm
• Optionaler Niedervakuum-Modus zur Aufladungsunterdrückung
• Messung der Elementzusammensetzung von Festkörpern mittels Röntgenfluoreszenzspektroskopie (EDX: B...U)

Laserscanning-Mikroskop – Olympus OLS 4100

• Hochaufgelöste dreidimensionale Mikroskopaufnahmen von Oberflächen und transparenten Schichtsystemen
• x/y-Auflösung: 120 nm, z-Auflösung: <10 nm
• Messung von Strukturbreiten, -tiefen und -winkeln
• Kontaktlose Messung von Oberflächenrauigkeiten

Röntgenphotoelektronenspektrometer (XPS/REELS) – Thermo Scientific NEXSA

• Analyse der Elementzusammensetzung von Festkörperoberflächen (XPS: Li...U, REELS: H)
• Bestimmung des chemischen Zustandes der Elemente
• Messung von Austrittsarbeit und Bandlückenenergie
• Erstellung von Tiefenprofilen (optional mit Probenrotation) der Elementzusammensetzung

Glovebox - MBraun EasyLab

• Probenpräparation unter Inertgasatmosphäre (N2, Ar), z.B. für XPS
• Konzentration H2O, O2: <1 ppm

Konfokales Ramanmikroskop – WITec Alpha300 R

• Ortsaufgelöste Analyse von chemischer Zusammensetzung und Kristallstruktur von Festkörpern sowie chemischer Zusammensetzung von Flüssigkeiten und Gasen
• Bestimmung von Spannungszuständen in Festkörpern
• x/y-Auflösung: 350 nm, z-Auflösung: 1 µm

Optisches Spektrometer (UV/Vis/NIR) – Shimadzu UV-2600

• Messung von optischer Absorption bzw. Transmission von Festkörpern und Flüssigkeiten im UV/Vis/NIR-Bereich (185...1400 nm)
• Messung von gerichteter (0°) und diffuser (8°) optischer Reflexion von Festkörpern und Flüssigkeiten im UV/Vis/NIR-Bereich
• Photometrische Konzentrationsmessungen
• Zeitaufgelöste Konzentrationsmessungen für die Bestimmung von Reaktionskinetiken

Kontaktwinkelmessgerät – Krüss DSA25

• Messung des Kontaktwinkels von verschiedenen Flüssigkeiten auf Festkörperoberflächen
• Kontaktwinkelbereich: 0 – 180°, Auflösung: 0,01°
• Bestimmung der freien Oberflächenenergie von Festkörpern

Haftfestigkeitsmessgerät – Elcometer 510

• Messung der Haftkraft von Schichten auf Substraten mittels Stempelabzugs-Test
• Messbereich: 2...25 MPa

4-Punkt Schichtwiderstandsmessgerät – Nagy SD-600 / Jandel HM21

• Messung des elektrischen Flächenwiderstands von 0,01 Ω/sq...10 MΩ/sq
• Messung des spezifischen elektrischen Widerstands / Schichtdickenmessung