Raster-Sonden-Mikroskopie (RSM)

Fakultät
Elektrotechnik und Medientechnik
Standort
Technische Hochschule Deggendorf
Anwendungsmöglichkeiten

Durch die Teilnahme am Praktikum „Ausgewählte Kapitel der Mikro- und Nanoelektronik“ erlernen die Studierenden, dass es neben der Raster-Elektronen-Mikroskopie, eine Vielzahl von Verfahren der Raster-Sonden-Mikroskopie gibt, mit denen Material- und Strukturparameter von mikro- und nanotechnologischen Systemen analysiert werden können. Das Ziel ist die Erlernung der Funktionsweisen unterschiedlicher SPM-Messmodi sowie die Befähigung zum praktischen Umgang mit Raster-Sonden-Mikroskopen. Die Praktikumsversuche vertiefen die theoretischen Grundkenntnisse von Mikro- und Nanosystemen und gewähren Einblicke in die Anwendung höchstauflösender SPM-Analysemethoden.

Leistungsspektrum:

  • Halbleiteranalytik
  • Oberflächenanalytik
  • Raster-Sonden-Mikroskopie

Messmodi:

  • Topographie (Tapping)
  • Scanning Capacitance (SCM)
  • Scanning Spreading Resistance (SSRM)
  • Kelvin-Probe-Force (KPFM)
  • Tunneling Current (TUNA, C-AFM)
  • Scanning Magnetic Force (MFM)
  • Harmonix
  • Nano Scratch & Nano Wear
  • Quantitative Nanomechanical Property Mapping (QNM)

Praktikumsinhalte:

  • Einführung Raster-Sonden-Mikroskopie
  • Rauhigkeits-Oberflächenanalyse einer präparierten Probe
  • Scanning Capacitance Microscopy (SCM)
  • Scanning Spreading Resistance Microscopy (SSRM)
  • Conductive Atomic Force Microscopy (CAFM)
  • Magnetic Force Microscopy (MFM)
  • Tunnelstrommessungen (TUNA)
  • Oxiddickenbestimmung Durchführung von Bachelor- und Masterarbeiten sowie von Forschungsprojekten auf den Gebieten der Raster-Sonden-Mikroskopie.

Das Labor richtet sich primär an Studierende der Technischen Hochschule Deggendorf.

Technische Daten

Ausstattung

  • 2 x AFM "Dimension 3100" der Firma Bruker mit Nanoscope IIIa Controller
  • AFM „Dimension Icon“ der Firma Bruker mit Nanoscope V Controller
  • TUNA Applikationsmodul
  • SCM Applicationsmodul
  • Topographiemessungen: es können Oberflächenbilder mit einer Höhenauflösung von unter einem nm erzeugt werden
  • SCM: Kombinierte Topographie- und Oberflächenkapazitätsmessung
  • TUNA: Kombinierte Topographie- und Oberflächenkapazitätsmessungen bis in den pA-Bereich
  • Elektrische Potential- und Kraftmessung
  • MFM: Magnetic Force Microscopy Charakterisierung magnetischer Eigenschaften
  • Mechanische Charakterisierung: Nanoidentation, -scratching, -wear, -friction
Ansprechpartner