Suche nach „[IQMA]“ hat 159 Publikationen gefunden

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

D. Liu, Günther Benstetter, Edgar Lodermeier

Comparison of Nanoscale Scratch and Wear Resistance of a-C:H, a-C:N and ta-C Fillms

International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2002), Garmisch-Partenkirchen

2002

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

D. Liu, Günther Benstetter, Y. Liu, T. Ma

Surface Roughness and Mechanical Properties of a-C:H Films Prepared by Low-pressure Dielectric Barrier Discharge

International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2002), Garmisch-Partenkirchen

2002

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

Günther Benstetter, M. Ruprecht, D. Hunt

A review of ULSI failure analysis techniques for DRAMs , Part I: defect localization and verification

Introductory Invited Paper

Microelectronics Reliability, vol. 42, pp. 307-316

2002

DOI: 10.1016/S0026-2714(02)00002-1

Abstract anzeigen

In this paper defect localization and verification procedures for ULSI DRAMs are described. The analytical process can be grouped into three subsequent phases: component based, die based and local techniques. Beginning with non-destructive localization methods on component level, such as X-ray and scanning acoustic microscopy (SAM), subsequent depackaging of the component enables more extensive electrical probing and physical defect localization at die level. The techniques applied at that level are liquid crystal, optical beam-induced current (OBIC), photo emission microscopy (PEM) and focused ion beam (FIB) to narrow down the failing area. The final fail location is determined after subsequent unlayering steps. Electrical microprobing and FIB techniques are utilized to verify the precisely localized fail within the previously determined area.

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

P. Awakowicz, R. Schwefel, P. Scheubert, Günther Benstetter

Deposition of a-C:H Films with an ECWR-Reactor at 27 MHz: Plasma Diagnostics and Correlation to Film Properties

Surface & Coatings Technology, no. 142-144, pp. 342-347

2001

DOI: 10.1016/S0257-8972(01)01313-5

Abstract anzeigen

For the first time, an electron–cyclotron-wave resonance (ECWR) source was used to deposit thin amorphous hydrocarbon (a-C:H) films. The deposition experiments have been supported by intensive plasma diagnostics with Langmuir probe (LP) measurements and energy mass spectrometry (EMS). The LP-investigations yielded a set of external parameters for homogeneously grown hard films at deposition rates of approximately 1.5 μm/h. By calibrating the EMS-system for particle number densities of stabile hydrocarbons and by using an appropriate fit-formula to evaluate absolute ion flux densities, the growth rates were in good agreement with predictions of the ‘thermally activated re-etching’-model (TR-model).

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

Günther Benstetter

Technologie-Zuverlässigkeit von Sub-Mikrometer-ICs

Seminarvortrag der Lehrstühle für Technische Elektronik und Technische Elektrophysik, München

2000

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

Günther Benstetter, A. Glasow

IC-Ausfälle durch Elektromigration: Zuverlässigkeit metallischer Leitbahnen in ULSI-Technologien

F&M Feinwerktechnik Mikrotechnik Mikroelektronik, no. 11

1999

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Beitrag (Sammelband oder Tagungsband)

Günther Benstetter, et al.

Reliability and Failure Analysis of 64 & 256 Mb DRAM Trench Capacitors

GMM-Fachbericht 17, Mikroelektronik 97, München

1997

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Beitrag (Sammelband oder Tagungsband)

H. Göbel, Günther Benstetter

Schnittstellen für schnelle Halbleiterspeicher

Jahrbuch der Elektrotechnik 1998, Berlin; Offenbach

1997

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

Günther Benstetter, R. Vollertsen

Zuverlässigkeitsanalysen an Sub- Mikrometer CMOS Transistoren

QZ - Qualität und Zuverlässigkeit, no. 11/97, pp. 1264-1267

1997

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

Günther Benstetter, H. Göbel

Zuverlässigkeitsherausforderungen dünner Dielektrika in Sub-Mikrometer ICs

F&M Feinwerktechnik Mikrotechnik Mikroelektronik, no. 3, pp. 127-132

1997

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Beitrag (Sammelband oder Tagungsband)

Günther Benstetter, et al.

Failure Analysis of DRAM Storage Node Trench Capacitors for 0.35-Micron and Follow-On Technologies Using the Focused Ion Beam for Electrical and Physical Analysis

Proceedings of the International Symposium for Testing and Failure Analysis

1996

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

Günther Benstetter

Experimental Observations of Steady Anodic Vacuum Arcs with Hot Cathode

IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 24, no. 6, pp. 1389-1393

1996

Abstract anzeigen

Stationary plasma discharges have been investigated in a high vacuum ambient (background gas pressure <10-2 Pa), with an externally heated cathode and a consumable hot evaporating anode. With various anode materials like chromium or copper, and electrode separations between 0.5 and 3 mm, the nonself-sustained discharge operates with DC arc currents in the range of 220 A. The waveform of the arc voltage is strongly influenced by the magnetic field of the cathode heating current, and arc voltages between a minimum of 3 V and a maximum exceeding 100 V have been observed. The voltage-current characteristics (VCC) and the influence of the electrode separation have been measured separately for the minimum and the maximum of the arc voltages and show a different behavior. The metal plasma expands into the ambient vacuum toward the walls of the vacuum vessel and offers a macroparticle free deposition source of thin films. The arc voltage can be varied by external manipulations of the arc discharge, and the mean ion energy of the expanding metal plasma shows a linear dependence of the mean arc voltage

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

Günther Benstetter

Anodischer Niedervoltbogen als Beschichtungsplasma

Journal für Oberflächentechnik (JOT), no. 9, pp. 13-16

1996

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Zeitschriftenartikel

H. Göbel, Günther Benstetter

Schnittstellen für schnelle Halbleiterspeicher

Nachrichtentechnische Zeitschrift (ntz), vol. 49, no. 11, pp. 28-33

1996

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Buch (Monographie)

Günther Benstetter

Laserstreuung und Entladungsdiagnostik am Beschichtungsplasma eines anodischen Vakuumbogens

Fortschritt-Berichte / VDI Fertigungstechnik, Düsseldorf, vol. Nr. 336

1995

ISBN: 3-18-333602-2

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

Günther Benstetter, et al.

Laserinduzierte Fluoreszenz am expandierenden Vakuumbogenplasma

Frühjahrstagung der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, Erlangen

1994

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

Günther Benstetter

Abscheidung dünner Metallschichten durch eine neuartige Plasmaentladung

Seminarvortrag am Lehrstuhl für Technische Elektrophysik, München

1994

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

Günther Benstetter

Grundlagen der Laserinduzierten Fluoreszenz

Seminarvortrag am Lehrstuhl für Technische Elektrophysik, München

1994

Elektrotechnik und MedientechnikIQMA

Vortrag

Günther Benstetter, et al.

Vergleich von Kalibrierungsmethoden für Laserinduzierte Fluoreszenz (LIF)

Frühjahrstagung der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, Greifswald

1993