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Suche nach „[I: IQMA]“ hat 159 Publikationen gefunden
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    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    D. Liu, Günther Benstetter, Edgar Lodermeier

    Comparison of Nanoscale Scratch and Wear Resistance of a-C:H, a-C:N and ta-C Fillms

    International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2002), Garmisch-Partenkirchen

    2002

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    D. Liu, Günther Benstetter, Y. Liu, T. Ma

    Surface Roughness and Mechanical Properties of a-C:H Films Prepared by Low-pressure Dielectric Barrier Discharge

    International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2002), Garmisch-Partenkirchen

    2002

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    Günther Benstetter, M. Ruprecht, D. Hunt

    A review of ULSI failure analysis techniques for DRAMs , Part I: defect localization and verification

    Introductory Invited Paper

    Microelectronics Reliability, vol. 42, pp. 307-316

    2002

    DOI: 10.1016/S0026-2714(02)00002-1

    Abstract anzeigen

    In this paper defect localization and verification procedures for ULSI DRAMs are described. The analytical process can be grouped into three subsequent phases: component based, die based and local techniques. Beginning with non-destructive localization methods on component level, such as X-ray and scanning acoustic microscopy (SAM), subsequent depackaging of the component enables more extensive electrical probing and physical defect localization at die level. The techniques applied at that level are liquid crystal, optical beam-induced current (OBIC), photo emission microscopy (PEM) and focused ion beam (FIB) to narrow down the failing area. The final fail location is determined after subsequent unlayering steps. Electrical microprobing and FIB techniques are utilized to verify the precisely localized fail within the previously determined area.

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    P. Awakowicz, R. Schwefel, P. Scheubert, Günther Benstetter

    Deposition of a-C:H Films with an ECWR-Reactor at 27 MHz: Plasma Diagnostics and Correlation to Film Properties

    Surface & Coatings Technology, no. 142-144, pp. 342-347

    2001

    DOI: 10.1016/S0257-8972(01)01313-5

    Abstract anzeigen

    For the first time, an electron–cyclotron-wave resonance (ECWR) source was used to deposit thin amorphous hydrocarbon (a-C:H) films. The deposition experiments have been supported by intensive plasma diagnostics with Langmuir probe (LP) measurements and energy mass spectrometry (EMS). The LP-investigations yielded a set of external parameters for homogeneously grown hard films at deposition rates of approximately 1.5 μm/h. By calibrating the EMS-system for particle number densities of stabile hydrocarbons and by using an appropriate fit-formula to evaluate absolute ion flux densities, the growth rates were in good agreement with predictions of the ‘thermally activated re-etching’-model (TR-model).

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    Günther Benstetter

    Technologie-Zuverlässigkeit von Sub-Mikrometer-ICs

    Seminarvortrag der Lehrstühle für Technische Elektronik und Technische Elektrophysik, München

    2000

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    Günther Benstetter, A. Glasow

    IC-Ausfälle durch Elektromigration: Zuverlässigkeit metallischer Leitbahnen in ULSI-Technologien

    F&M Feinwerktechnik Mikrotechnik Mikroelektronik, no. 11

    1999

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Beitrag (Sammelband oder Tagungsband)

    Günther Benstetter, et al.

    Reliability and Failure Analysis of 64 & 256 Mb DRAM Trench Capacitors

    GMM-Fachbericht 17, Mikroelektronik 97, München

    1997

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Beitrag (Sammelband oder Tagungsband)

    H. Göbel, Günther Benstetter

    Schnittstellen für schnelle Halbleiterspeicher

    Jahrbuch der Elektrotechnik 1998, Berlin; Offenbach

    1997

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    Günther Benstetter, R. Vollertsen

    Zuverlässigkeitsanalysen an Sub- Mikrometer CMOS Transistoren

    QZ - Qualität und Zuverlässigkeit, no. 11/97, pp. 1264-1267

    1997

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    Günther Benstetter, H. Göbel

    Zuverlässigkeitsherausforderungen dünner Dielektrika in Sub-Mikrometer ICs

    F&M Feinwerktechnik Mikrotechnik Mikroelektronik, no. 3, pp. 127-132

    1997

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Beitrag (Sammelband oder Tagungsband)

    Günther Benstetter, et al.

    Failure Analysis of DRAM Storage Node Trench Capacitors for 0.35-Micron and Follow-On Technologies Using the Focused Ion Beam for Electrical and Physical Analysis

    Proceedings of the International Symposium for Testing and Failure Analysis

    1996

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    Günther Benstetter

    Experimental Observations of Steady Anodic Vacuum Arcs with Hot Cathode

    IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 24, no. 6, pp. 1389-1393

    1996

    Abstract anzeigen

    Stationary plasma discharges have been investigated in a high vacuum ambient (background gas pressure <10-2 Pa), with an externally heated cathode and a consumable hot evaporating anode. With various anode materials like chromium or copper, and electrode separations between 0.5 and 3 mm, the nonself-sustained discharge operates with DC arc currents in the range of 220 A. The waveform of the arc voltage is strongly influenced by the magnetic field of the cathode heating current, and arc voltages between a minimum of 3 V and a maximum exceeding 100 V have been observed. The voltage-current characteristics (VCC) and the influence of the electrode separation have been measured separately for the minimum and the maximum of the arc voltages and show a different behavior. The metal plasma expands into the ambient vacuum toward the walls of the vacuum vessel and offers a macroparticle free deposition source of thin films. The arc voltage can be varied by external manipulations of the arc discharge, and the mean ion energy of the expanding metal plasma shows a linear dependence of the mean arc voltage

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    Günther Benstetter

    Anodischer Niedervoltbogen als Beschichtungsplasma

    Journal für Oberflächentechnik (JOT), no. 9, pp. 13-16

    1996

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Zeitschriftenartikel

    H. Göbel, Günther Benstetter

    Schnittstellen für schnelle Halbleiterspeicher

    Nachrichtentechnische Zeitschrift (ntz), vol. 49, no. 11, pp. 28-33

    1996

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Buch (Monographie)

    Günther Benstetter

    Laserstreuung und Entladungsdiagnostik am Beschichtungsplasma eines anodischen Vakuumbogens

    Fortschritt-Berichte / VDI Fertigungstechnik, Düsseldorf, vol. Nr. 336

    1995

    ISBN: 3-18-333602-2

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    Günther Benstetter, et al.

    Laserinduzierte Fluoreszenz am expandierenden Vakuumbogenplasma

    Frühjahrstagung der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, Erlangen

    1994

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    Günther Benstetter

    Abscheidung dünner Metallschichten durch eine neuartige Plasmaentladung

    Seminarvortrag am Lehrstuhl für Technische Elektrophysik, München

    1994

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    Günther Benstetter

    Grundlagen der Laserinduzierten Fluoreszenz

    Seminarvortrag am Lehrstuhl für Technische Elektrophysik, München

    1994

    F: Elektrotechnik und MedientechnikI: IQMA

    Vortrag

    Günther Benstetter, et al.

    Vergleich von Kalibrierungsmethoden für Laserinduzierte Fluoreszenz (LIF)

    Frühjahrstagung der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, Greifswald

    1993