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    Angewandte Naturwissenschaften und Wirtschaftsingenieurwesen

    Zeitschriftenartikel

    K. Röttger, R. Kellner, Engelbert Hofbauer

    Kurzer Prozeß mit Ebenheit - Ebenheitsmessung an Polierträgerplatten in der Silizium-Waferfertigung

    F&M Feinwerktechnik Mikrotechnik Mikroelektronik, vol. 104, no. 5, pp. 340-343

    1996

    Abstract anzeigen

    Evenness measurement on polished support plates in silicon wafer production. The semiconductor industry requires silicon wafers complying with stringent evenness and surface uniformity requirements. To permit these parameters to be fulfilled and further optimized, reliable information regarding the evenness of machine elements playing a crucial role in the production process is essential. Simple, precise gauging is possible using an electronic autocollimator in conjunction with a signal-processing portable PC.